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        谈谈超声波节能光刻胶高精度喷涂设备你了解多

        作者:扬州朗顿涂装科技有限公司发表时间:2018/2/7 9:39:54

          光刻胶又称光致抗蚀剂,是由感光树脂、增感剂和溶剂等组成的光敏感混合液体。它在集成电路、太阳能光伏、微机电系统等领域应用广泛。

          高均匀性的光刻胶薄膜多采用旋转涂胶工艺。利用旋转涂胶工艺所获得的光刻胶薄膜最终厚度是由光刻胶的粘度、表面张力和转盘的旋转角速度等因素决定,绝大多数的光刻胶因旋转涂胶时的离心力被甩离晶圆表面,造成浪费现象,故光刻胶利用率极低。

          针对光刻胶涂覆工艺(旋转涂胶工艺)的浪费和环境污染问题,驰飞超声波在自行研发的120KHZ的超声波雾化喷涂设备的基础上,对光刻胶喷涂工艺进行改进。

          超声波雾化喷涂设备电源功耗(10W)低,产生的雾化液滴平均粒径小、均匀性好,液滴直接喷涂在晶圆表面上的光刻胶利用率高,因此它被认为是一种绿色的光刻胶薄膜制备工艺。而普通超声波雾化喷涂设备表面的雾化液滴初始速度小,易于受到周围空气的扰动,不利于获得高质量的光刻胶薄膜,难以实现理想的喷涂效果。为此,驰飞超声波在超声波雾化喷涂设备中加入载气??樵黾游砘旱蔚亩?,控制雾化喷涂方向和范围,实现光刻胶薄膜的定向喷涂于基底的晶圆表面。


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